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한국과 중국, 일본은 세 나라간 국제 특허 출원 절차를 간소화하고 심사 방식의 통일을 추진하기 위한 당국자간 실무회의를 시작하기로 했다고 일본 니혼게이자이 신문이 오늘 보도했습니다. 실무회의에는 한ㆍ일 양국 특허청 실무자와 중국 지식재산국 당국자가 참가하며 이후 정기적인 장관급 회의를 열어 제도 통일 논의를 본격화하기로 했습니다. 한,중,일 세나라는 회의를 통해 디자인 의장 특허 제도와 특허 우선 심사 제도 등을 일치시키고 최종적으로 특허 심사 기준을 통일하는 방안 등을 추진할 계획입니다. 심사 기준이 통일되면 기업의 생산과 판매가 세나라 안에서 한꺼번에 이뤄질 수 있게돼 앞으로 자유무역지대 창설에 탄력이 붙을 것으로 기대됩니다.